韩国半导体产业协会成立30周年庆典在首尔举行。 会议期间，SK海力士CEO李锡熙（李锡熙）在与媒体交流时谈到了无锡海力士半导体工厂。

对于EUV光刻机进厂可能出现的延迟，李锡熙表示正在与美国合作，进展顺利。 EUV光刻技术已经应用于韩国本土DRAM生产线，中国工厂还有充足的时间进行调解和沟通。

有消息称，SK海力士将生产基于EUV光刻机的10nm DRAM芯片，这是第四代内存。无锡工厂也计划应用相关技术，目前正在寻求多种方法来克服困难。

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